液晶面板，觸摸屏，太陽能電池用高純銅靶材?？蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 以進口的高純銅為原料，加工制成純度高，晶粒結構均勻的靶材。先進的工藝控制不純物含量，減少鍍膜期間異物粒子的產生從而獲得低電阻，質量優的膜質。 提供各種平面濺射設備用靶材以及粘接服務。 主要用途：電極， 布線

液晶面板，觸摸屏，太陽能電池用高純鋁靶材?？蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 以高純鋁為原料，通過壓延，熱處理等一系列加工工藝制成純度高，晶粒結構均勻的靶材。為使靶材初期放電穩定，對靶材表面進行特殊加工。通過嚴格控制靶材的氣相成分和晶粒度，從而提高靶材從使用初期到末期，膜厚，膜質以及放電穩定。提供各種平面濺射設備用靶材以及粘接服務。 主要用途：電極， 布線

液晶面板，觸摸屏，太陽能電池用高純鈦靶材?？蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 特殊熱工藝出理，消除內部應力，保證高粘接附著率。為防止異物粒子產生，對靶材非濺射區進行特殊加工以減少逆向膜產生。為使靶材初期放電穩定，對靶材表面進行特殊加工。提供各種平面濺射設備用靶材以及粘接服務。 主要用途：電極材料，阻隔層

液晶面板，觸摸屏，太陽能電池用高純鉬靶材?？蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 嚴格管理原料粉末的純度以及粒度分布，使靶材的品質穩定；高密度靶材提高放電過程穩定性。嚴格控制靶材晶粒度各向分布均勻性，保證鍍膜過程的穩定性。提供各種平面濺射設備用靶材以及粘結服務。 主要用途：導電保護層，阻隔層

靶材按其作用形式命名，材質非常廣泛，各種單金屬，合金和陶瓷都能用作靶材 靶材較對傳統材料行業要求高，主要對尺寸，平整度，純度，各項雜質含量，密度，晶粒尺寸與缺陷控制，表面粗糙度，電阻值，晶粒尺寸均勻性，成份與組織均勻性，氧化物含量，導磁率，超高密度，超細晶粒等等要求都各不相同。

可定制各種靶材，靶材按其作用形式命名，材質非常廣泛，各種單金屬，合金和陶瓷都能用作靶材 靶材較對傳統材料行業要求高，主要對尺寸，平整度，純度，各項雜質含量，密度，晶粒尺寸與缺陷控制，表面粗糙度，電阻值，晶粒尺寸均勻性，成份與組織均勻性，氧化物含量，導磁率，超高密度，超細晶粒等等要求都各不相同。

提供真空蒸發鍍膜材料，產品規格尺寸根據要求制作，通過對蒸發材表面進行特殊處理，抑制使用初期時異常放電的產生。嚴格控制不純物含量，以獲得高反射率的薄膜，鍍膜表面致密度，光潔度及其純度越好。 主要用途：應用于半導體芯片背面金屬化

提供真空蒸發鍍膜材料，產品規格尺寸根據要求制作，通過對蒸發材表面進行特殊處理，抑制使用初期時異常放電的產生。嚴格控制不純物含量，以獲得高反射率的薄膜，鍍膜表面致密度，光潔度及其純度越好。 主要用途：應用于半導體芯片背面金屬化

提供真空蒸發鍍膜材料，產品規格尺寸根據要求制作，通過對蒸發材表面進行特殊處理，抑制使用初期時異常放電的產生。嚴格控制不純物含量，以獲得高反射率的薄膜，鍍膜表面致密度，光潔度及其純度越好。 主要用途：應用于半導體芯片背面金屬化

提供真空蒸發鍍膜材料，產品規格尺寸根據要求制作，通過對蒸發材表面進行特殊處理，抑制使用初期時異常放電的產生。嚴格控制不純物含量，以獲得高反射率的薄膜，鍍膜表面致密度，光潔度及其純度越好。 主要用途：應用于半導體芯片背面金屬化

愛發科制的Ta、Nb板，粒徑精細而均一。因此，沖壓成品率高，沖壓加工后的表面粗糙少，可獲得強度、特性均一的金屬箔

愛發科特有的通過氣體中蒸發法制作的納米金屬油墨，不存在溶劑中凝集的現象，安定地分散的新型導電性油墨。通過噴墨打印法可直接形成微細配線的圖形。

愛發科制造面向各種領域的濺射靶材，提供精制和精密加工的高功能材料、面向電極膜或配線等的薄膜精製和精密加工的噴墨打印設備的納米油墨等。